Electrical properties and interfacial characteristics of RuO2/HfAlOx/SiON/Si and RuO2/LaAlO3/SiON/Si capacitors
V. Edon
,
Zhenyu Li
(1)
,
M.C. Hugon
(1)
,
C. Krug
,
K.P. Bastos
,
L. Miotti
,
Christophe Cardinaud
(2)
,
I.J.R. Baumvol
(2)
,
Olivier Durand
(3, 4)
,
C. Eypert
(5)
V. Edon
- Fonction : Auteur
C. Krug
- Fonction : Auteur
K.P. Bastos
- Fonction : Auteur
L. Miotti
- Fonction : Auteur
Christophe Cardinaud
- Fonction : Auteur
- PersonId : 759248
- ORCID : 0000-0002-9753-8848
- IdRef : 060603011
Olivier Durand
- Fonction : Auteur
- PersonId : 3896
- IdHAL : olivier-durand
- ORCID : 0000-0002-4956-7767
- IdRef : 159510996