Effet de l'addition d'argon sur les propriétés structurales des films de silicium microcristallin déposés par PECVD à basse température - Université de Rennes Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2006
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00437528 , version 1 (30-11-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00437528 , version 1

Citer

Khalid Kandoussi, Claude Simon, Nathalie . Coulon, Tanguy Pier, Tayeb Mohammed-Brahim. Effet de l'addition d'argon sur les propriétés structurales des films de silicium microcristallin déposés par PECVD à basse température. Journées Nationales du Réseau Doctoral de Microélectronique, May 2006, Rennes, France. pp.Poster. ⟨hal-00437528⟩
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