Effect of argon dilution on the microstructral properties of PECVD microcrystalline silicon film and related TFT's performance - Université de Rennes Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2006
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00437498 , version 1 (30-11-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00437498 , version 1

Citer

Khalid Kandoussi, Claude Simon, Nathalie . Coulon, Tanguy Pier, Tayeb Mohammed-Brahim. Effect of argon dilution on the microstructral properties of PECVD microcrystalline silicon film and related TFT's performance. Spring Meeting EMRS, May 2006, Nice, France. ⟨hal-00437498⟩
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