Mems fast fabrication by selective thick polysilicon growth In epitaxial reactor - Université de Rennes Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Microsystem Technologies Année : 2006

Mems fast fabrication by selective thick polysilicon growth In epitaxial reactor

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00437256 , version 1 (30-11-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00437256 , version 1

Citer

Olivier de Sagazan, Matthieu Denoual, P. Guil, D. Gaudin, Olivier Bonnaud. Mems fast fabrication by selective thick polysilicon growth In epitaxial reactor. Microsystem Technologies, 2006, 12, pp.953-958. ⟨hal-00437256⟩
89 Consultations
0 Téléchargements

Partager

Gmail Facebook X LinkedIn More