Optique intégrée polymère à base de photoresist, deux voies possibles: photolithographie directe et photo-inscription - Université de Rennes Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2002

Optique intégrée polymère à base de photoresist, deux voies possibles: photolithographie directe et photo-inscription

Dominique Bosc
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 833190
Isabelle Hardy
Philippe Grosso
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 833189

Résumé

Nous montrons ici la possibilité de faire des guides intégrés polymères par deux voies plus directes que celles plus classiquement employées. Pour cela, nous utilisons un matériau avec des groupements photosensibles qui permet d'obtenir des guides par photolithographie directe ou bien par photo-inscription de guide.
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00147637 , version 1 (19-05-2007)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00147637 , version 1

Citer

Thomas Batte, Frédéric Guézou, Dominique Bosc, Isabelle Hardy, Philippe Grosso. Optique intégrée polymère à base de photoresist, deux voies possibles: photolithographie directe et photo-inscription. 21èmes Journées Nationales d'Optique Guidée (JNOG 2002), Sep 2002, Dijon, France. pp.164-166. ⟨hal-00147637⟩

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